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在發展中求生存,不斷完善,以良好信譽和科學的管理促進企業迅速發展在半導體制造領域,晶圓作為半導體芯片的基礎材料扮演著至關重要的角色。然而,在晶圓制造過程中,由于各種因素可能會導致晶圓表面出現缺陷,這些缺陷如果未能及時檢測和修復,可能會對最終產品的性能和品質造成嚴重影響。為了提高生產效率和產品質量,晶圓缺陷光學檢測設備應運而生,并在半導體行業得到廣泛應用。原理探索晶圓缺陷光學檢測設備通過光學成像技術對晶圓表面進行掃描和分析,以檢測和識別各類缺陷。其原理主要包括以下幾個方面:1.光源與光學系統:設備通常采用高亮度、高分辨率的光源,結合精密的光...
查看詳情“2024慕尼黑上海光博會”即將在魔都拉開帷幕,大會致力于推動業界各分支領域的創新與商業發展,匯聚來自世界各地科研及工業領域的專家學者,是提升市場競爭力及尋找創新解決方案的平臺。“SEMICON2024”作為全球具影響力的半導體專業展,也將同期舉行,這一精彩盛會覆蓋芯片設計、制造、封測、設備、材料、光伏、顯示等全產業鏈。舜宇應邀參展,我們誠邀您蒞臨參觀,與我們共同探討前沿光學技術。光博會主展位:W5-5402此次,SOPTOP將攜全面的工業檢測解決方案亮相展會,為您呈現我們在...
查看詳情微米級成像技術一直是科學研究和工程應用中的重要領域,而結構光照明顯微成像系統作為一種突破性的成像技術,正帶領著微觀世界的探索與發現。隨著科技的不斷進步,該成像系統在近年來取得了許多令人矚目的突破性進展。結構光照明顯微成像系統是一種基于結構光原理的成像技術,通過利用復雜的照明模式和高分辨率的成像傳感器,可以實現對微米級甚至納米級目標物體的高清成像。相比傳統顯微鏡,該成像系統具有更高的分辨率、更快的成像速度和更廣闊的適用范圍,被廣泛應用于生命科學、材料科學、工程技術等領域。在生命...
查看詳情在半導體產業中,晶圓的純凈度和完整性直接決定了最終產品的質量和性能。因此,半導體晶圓缺陷檢測成為了半導體制造過程中不能或缺的一環。隨著科技的不斷進步,半導體晶圓缺陷檢測技術也在迅速發展,以確保每一個晶圓都符合高標準的質量要求。晶圓缺陷的來源:晶圓缺陷可能來源于多個環節,包括材料制備、制造工藝、設備故障等。這些缺陷可能表現為微小顆粒、劃痕、凹陷等形式,對晶圓的性能和可靠性造成嚴重影響。檢測技術的演變:傳統的檢測主要依賴人工目檢,這種方法效率低下且容易漏檢。隨著技術的發展,自動化...
查看詳情全新升級的OD630K顯微鏡數碼相機,擁有630萬物理有效像素,搭60fps高幀率,可為用戶提供清晰明亮的顯微圖像,性能和實用性得到進一步提升!一、超高幀率,快速捕捉OD630K配備高靈敏度CMOS,可實現60fps的高幀率拍攝,清晰捕捉高速移動物體,大幅提升操作效率與圖像處理速度。▲移動中的PCB成像二、色彩還原,真實再現OD630K擁有優異色彩還原能力,確保圖像真實反映樣品的每一個色彩細節,有效提升相機成像質量,準確還原被捕捉物體的色彩,使圖像更加真實。三、銳化功能,清晰...
查看詳情選擇適合自己的國產共聚焦顯微鏡是一項重要的決策,它涉及到實驗室或科研機構的投資和科研成果的質量。本文將為您提供一個選購指南,以及需要注意的事項,幫助您做出明智的選擇。1.確定研究需求:首先要明確自己的研究領域和需求。不同的共聚焦顯微鏡具有不同的功能和應用范圍,比如熒光成像、體內觀察等。根據自己的實驗目的和樣品特點,確定所需功能和性能。2.預算評估:產品的價格較高,因此在選購前要評估預算并制定合理的投資計劃。考慮到設備的性能、品牌聲譽和售后服務等因素,可以與多家供應商進行比較,...
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